【请教】 HRTEM测试中明场像与暗场像都有什么区别呢?

作者:admin 来源:未知 点击数: 发布时间:2019年08月11日

  如题,请大师不惜赐教,感谢

  一个是透射束成像,一个是衍射束成像

  透射电镜图像分为试样的显微像和衍射花腔,这两种像别离为分歧电子成像,前者是透射电子成像,后者为散射电子成像。

  透射电镜中,不只能够选择特定的像区进行电子衍射(选区电子衍射),还能够选择成像电子束。(选择衍射成像)

  明场像(BF):选用直射电子构成的像(透射束),像清晰。

  暗场像(DF):选用散射电子构成的像(衍射束),像有畸变、分辩率低。

  成像电子的选择是通过在物镜的背焦面上插入物镜光阑来实现的。

  核心暗场像(CDF):入射电子束对试样倾斜照明,获得的暗场像。像不畸变、分辩率高。

  暗场成像前提下,成像电子束偏离透射电镜的光轴,形成较大的像差,成像质量差,为获得高质量暗场像,采纳核心暗场成像。即入射电子束反向倾斜一个响应的散射角度,使散射电子沿光轴传布。

  感激二位,可不知这两种成像,二者放在一路怎样阐发呢?

  起首,HRTEM中只要明场成像,没有暗场成像。

  所谓明场,暗场成像只是对低倍察看时说的。

  对于成像的道理和特点2,3楼都说得比力完全。

  我来说说对于这两种方式获得图像的阐发。

  一般来说,察看描摹我们都比力喜好用明场像,由于成像衬度好(特别是加了合适的光阑),形变小。其次要表示为厚度衬度,对厚度敏感。

  而察看缺陷如位错,孪晶的时候喜好用暗场像,由于暗场像是来自于选定的某个衍射束,对应于晶体特定的晶面。在缺陷处所,电子衍射的标的目的和完整的处所纷歧样,从而使得缺陷处所可以或许在暗场像上清晰的显示出来。而明场像由于是多个衍射束的成像,对缺陷不敏感,虽然有时候也能反映出缺陷,可是及其恍惚。其次要表示为衍射衬度。也就是对衍射面敏感。

  好比说一个孪晶材料,对于明场,孪晶界面很淡,可是选择合适的衍射点做暗场像能够很清晰的看见孪晶界面。并且选择此中一个晶体特有的衍射点,做暗场能够发觉只要这一个晶体出此刻图像上,而别的一个晶体看不见。

  对于暗场一个主要的用处是察看层错,好比说立方晶系里面的111标的目的的层错用明场像无法看出来。由于出缺陷和无缺陷的处所厚度一样。可是暗场像在特定的标的目的察看时,能够察看到三角形或者蝴蝶状以至金字塔装的衬度明暗条纹。这个时候用到的一个TEM手艺叫做双束。

  两头可能有些表述不清晰,敬请谅解,

  P.S.楼主有钱人我这么辛苦回帖,可不克不及够帮手赏点金币,论坛有些贴子都看不了。有什么布局,TEM的问题能够一路会商。

  牛人,进修了!

  趁便就教:透射电镜都能够做明场和暗场像吗?我看我们尝试室的人在学校的透射电镜做的都是明场像。

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